대법원 전경, 뉴스1

SK하이닉스의 반도체 핵심 기술과 삼성전자 계열사의 첨단 기술을 중국 경쟁 업체에 유출한 혐의로 기소된 협력 업체 부사장과 임직원들이 대법원에서 징역형을 확정받았다.

대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법) 위반 등 혐의로 기소된 SK하이닉스의 협력업체 부사장 등 개인 5명과 법인 A에 대한 상고심을 열어 “원심 판단에‘국가핵심기술’, ‘첨단기술’에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다”며 이같이 판결했다.

이에 따라 원심 선고대로 부사장은 징역 1년 6개월, 회사 연구소장과 영업그룹장은 각 징역 1년 6개월에 벌금 5000만원을 확정했다. 또 품질그룹장은 징역 1년, 기구설계그룹장은 징역 8개월에 집행유예 2년을 선고받았다. 법인의 대표자 등이 법 위반 행위를 했을 때 법인에도 벌금형을 부과하는 양벌규정으로 기소된 A사는 벌금 10억원을 확정했다.

이들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스와의 협업을 통해 알게 된 반도체 관련 국가 핵심기술 등을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의 등으로 재판에 넘겨졌다. 유출된 기술은 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술, 반도체 세정 레시피 정보 등이다. 이는 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술로 평가받는다.

또 삼성전자 계열사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정 장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받았다.

1심 재판부는 “국가 핵심 기술을 해외로 유출하는 범행은 상당히 무겁고 죄질이 좋지 않다”며 대부분 혐의를 인정하면서도 SK하이닉스와 협력사가 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의는 “공동 소유물인 만큼 대외 발표만 금지된다”며 일부 무죄를 선고, 부사장에게 징역 1년 선고를 하는 등 비교적 적은 형량을 선고했다.

하지만 지난해 10월 2심 재판부는 법리를 조금 더 엄격하게 보면서 형량을 늘렸다. 계약상 공동개발결과물에 관한 비밀유지의무와 관련해 2심 재판부는 “기술을 SK하이닉스의 경쟁업체 등 제3자에게 은밀하게 제공하려면 적어도 사전에 SK하이닉스의 동의를 얻었어야 했다”며 “비밀유지 대상인 산업기술에 해당하고, 이를 유출한 것은 범죄”라고 판단했다.

대법원은 2심의 판단이 맞다고 보고 형을 확정 지었다.